Eine Maschine zur physikalischen Gasphasenabscheidung für optische Zwecke besteht darin, das Filmmaterial in einen wassergekühlten Kupfertiegel zu legen und die Atome oder Moleküle im Filmmaterial durch direkte Elektronenstrahlerwärmung zu verdampfen und von der Oberfläche zu entweichen, dann in die Substratoberfläche einzudringen und zu einem Film zu kondensieren.
Die Elektronenstrahlverdampfung hat einen höheren thermischen Wirkungsgrad, eine höhere Strahlstromdichte, eine schnellere Verdampfungsgeschwindigkeit und eine höhere Reinheit des Films als die allgemeine Widerstandsheizungsverdampfung.
Anwendungen:
Eine optische Beschichtungsmaschine kann eine Vielzahl von Filmsystemen mit einer großen Anzahl von Schichten beschichten, z. B. Kurzwellendurchlass, Langwellendurchlass, Antireflexionsfilm, reflektierender Film, Filterfilm, spektroskopischer Film, Bandpassfilm, dielektrischer Film, hochreflektierender Film, farbreflektierender Film usw.
Es kann eine Filmbeschichtung von 0–50 Filmschichten erreichen und kann auch die Beschichtungsanforderungen von Produkten wie reflektierendem Automobilglas, Brillen, optischen Linsen, Kaltlichtbechern usw. erfüllen.
Es kann eine Vielzahl von Filmsystemen mit unterschiedlichen Verdampfungsquellen, Elektronenkanonen, Ionenquellen und Filmdickenmessgeräten beschichten und Metalle, Oxide, Verbindungen und andere Filmmaterialien mit hohem -Schmelzpunkt- verdampfen.
Merkmale:
Die Maschine zur physikalischen Gasphasenabscheidung für optische Zwecke ist mit einem Quarzkristall-Filmdickenmessgerät ausgestattet, und die SPS und das Touchscreen-System sind kombiniert, um eine automatische Steuerung des gesamten Arbeitsprozesses mit ausgezeichneter Arbeitseffizienz und Wiederholbarkeit der Produktqualität zu realisieren.
Geeignet für den Einsatz durch Hersteller im optischen Bereich und-großindustrielle Produktionsanforderungen.
Spezifikation:
| Optische Beschichtungsmaschine | |||||||
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Modell |
SF-800 |
SF-1200 |
SF-1400 |
SF-1600 |
SFW-1000 |
SFW-1200 |
SFW-1600 |
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Kammergröße |
Φ800×1000MM |
Φ1200×1400MM |
Φ1400×1600MM |
Φ1600×1800MM |
Φ1000×1100MM |
Φ1200×1400MM |
Φ1600×1800MM |
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Vakuumeinheit |
KT500 Diffusionspumpeneinheit |
KT630 Diffusionspumpeneinheit |
Doppelte Diffusionspumpeneinheit KT630 |
Doppelte Diffusionspumpeneinheit KT630 |
KT500 Diffusionspumpeneinheit |
KT630 Diffusionspumpeneinheit |
Doppelte Diffusionspumpeneinheit KT630 |
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Beschichtungssystem |
Elektronenkanonen-Verdampfungsquelle, spezielle Stromversorgung für Beschichtungshilfsionen oder Hall-Ionenquelle |
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Inflationssystem |
Druckregler |
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Kontrollmethode |
Manuell oder vollautomatisch |
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System zur Überwachung der Filmdicke |
System zur Überwachung der Quarzkristallschichtdicke |
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Pumprate |
5×10-3Pa﹤15min |
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Ultimatives Vakuum |
3,0X10-4Pa |
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Bemerkung |
Die oben genannten Geräteparameter dienen nur als Referenz und werden entsprechend den tatsächlichen Prozessanforderungen der Kunden entworfen und angepasst. |
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