Die optische Vakuumbeschichtungsmaschine der Elektronenstrahlverdampfung besteht darin, das Filmmaterial in einen wassergekühlten Kupferstiegel zu legen und direkt Elektronenstrahlheizung zu verwenden, um die Atome oder Moleküle im Filmmaterial zu erzeugen und von der Oberfläche zu entkommen, dann die Substratoberfläche in einen Film einzusteigen.
Elektronenstrahlverdampfung hat eine höhere thermische Effizienz, eine höhere Strahldichte, eine schnellere Verdunstungsgeschwindigkeit und eine höhere Reinheit des Films als die Verdunstung des allgemeinen Widerstandserwärnungsverdampfes.
Anwendungen:
Optische Vakuumbeschichtungsgeräte können eine Vielzahl von Filmsystemen mit einer großen Anzahl von Schichten wie Kurzwellenpass, Langwellungspass, Anti-Reflexionsfilm, reflektierender Film, Filterfilm, spektroskopischer Film, Bandpassfilm, dielektrischer Film, hochreflektierender Film, Farbreflexionsfilm usw. beschichten
Es kann eine Filmbeschichtung von 0-50 Filmschichten erzielen und auch die Beschichtungsanforderungen von Produkten wie Reflexionsglas, Brillen, optische Objektive, Kaltlichtbecher usw. erfüllen.
Es kann eine Vielzahl von Filmsystemen mit unterschiedlichen Verdunstungsquellen, Elektronenpistolen, Ionenquellen und Filmdickenmessgeräten beschichten und Metalle, Oxide, Verbindungen und andere Filmmaterialien mit hohem Meltzeit verdampfen.
Merkmale:
Die optische Beschichtungsmaschine ist mit einem Quarz -Kristallfilm -Dicke -Messgerät ausgestattet, und das SPS- und Touchscreen -System wird kombiniert, um die automatische Steuerung des gesamten Arbeitsprozesses mit hervorragender Arbeitseffizienz und Wiederholbarkeit der Produktqualität zu realisieren.
Geeignet für die Verwendung durch Hersteller im optischen Feld und in großem Maßstab industrielle Produktionsanforderungen
Spezifikation:
| Optische Vakuumbeschichtungsmaschine | |||||||
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Modell |
SF-800 |
SF-1200 |
SF-1400 |
SF-1600 |
SFW-1000 |
SFW-1200 |
SFW-1600 |
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Kammergröße |
Φ800 × 1000 mm |
Φ1200 × 1400 mm |
Φ1400 × 1600 mm |
Φ1600 × 1800 mm |
Φ1000 × 1100 mm |
Φ1200 × 1400 mm |
Φ1600 × 1800 mm |
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Vakuumeinheit |
KT500 Diffusionspumpeeinheit |
KT630 Diffusionspumpeeinheit |
Doppelte KT630 -Diffusionspumpeeinheit |
Doppelte KT630 -Diffusionspumpeeinheit |
KT500 Diffusionspumpe Einheit |
KT630 Diffusionspumpeeinheit |
Doppelte KT630 -Diffusionspumpeeinheit |
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Beschichtungssystem |
Elektronenpistolenverdampfungsquelle, Beschichtung Hilfsionen dedizierte Stromversorgung oder Hall -Ionenquelle |
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Inflationssystem |
Druckregler |
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Kontrollmethode |
Manuell oder vollautomatisch |
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Filmdicke Überwachungssystem |
Quarz -Kristallfilm -Dicke -Überwachungssystem |
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Pumprate |
5 × 10-3Pa ﹤ 15 min |
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Ultimatives Vakuum |
3.0x10-4pa |
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Bemerkung |
Die oben genannten Ausrüstungsparameter dienen nur als Referenz und sind gemäß den tatsächlichen Prozessanforderungen der Kunden ausgelegt und angepasst. |
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